Chcę pozostać zalogowany
Wylogowanie za 
Sesja wygasła
Twoja sesja wygasła. Zostałeś wylogowany dla własnego bezpieczeństwa.
Chcesz zalogować się jeszcze raz?

Nie czekaj na ofertę, wygeneruj ją samodzielnie na pl.vwr.com szybko i wygodnie!

Systemy do czyszczenia pomieszczeń sterylnych

Proces czyszczenia zależy przede wszystkim od czterech czynników z tzw. okręgu Sinnera (niem. „Sinner'scher Kreis”). Narzędzia do czyszczenia i materiały pomocnicze wybiera się z uwzględnieniem tych czynników. Ponadto charakter czyszczonej powierzchni określa zastosowaną metodę czyszczenia.

Systemy do czyszczenia pomieszczeń sterylnych

Ilustracja przedstawiająca „okrąg Sinnera”:

Czynnik chemiczny
Najpierw proces czyszczenia jest inicjowany za pomocą substancji czynnych w detergencie. Zapewniają one neutralizację sił wiążących cząstki zanieczyszczeń, aby zarówno luźne, jak i związane zanieczyszczenia, mogły zostać usunięte. W tym wypadku woda służy jako substancja nośna do przenoszenia zanieczyszczeń.

Czas
Czynnik ten stanowi okres między zastosowaniem detergentu lub kąpieli czyszczącej a wchłonięciem kąpieli zanieczyszczonej. W pomieszczeniach czystych czynnik czasu może zostać prawie pominięty, ponieważ z jednej strony można w nich oczekiwać znacznie mniejszego nagromadzenia zanieczyszczeń niż na powierzchniach podłóg przemysłowych: z drugiej strony, w odniesieniu do stanu powierzchni, często stosowaną metodą czyszczenia w pomieszczeniach czystych jest wycieranie na mokro.

Temperatura
Niektóre rodzaje zanieczyszczeń mogą być skuteczniej rozpuszczone w wodzie ciepłej niż w zimnej.

Czynnik mechaniczny
Dzięki zastosowaniu optymalnego działania mechanicznego, możliwe jest skrócenie czasu rozpoczęcia procesu czyszczenia, a zatem jego przyspieszenie. Czynnik ten może być pominięty w przypadku „niskiego” zanieczyszczenia. W procesie wycierania stosowane jest tylko działanie mechaniczne przy użyciu pracy ręcznej, aby jak najbardziej zmniejszyć wytwarzanie cząstek lub turbulencji.