Keep my session open?
Ending In 
The session is expired
Twoja sesja wygasła. Zostałeś wylogowany dla własnego bezpieczeństwa.
Chcesz zalogować się jeszcze raz?

Systemy do czyszczenia pomieszczeń sterylnych

Proces czyszczenia zależy przede wszystkim od czterech czynników z tzw. okręgu Sinnera (niem. „Sinner'scher Kreis”). Narzędzia do czyszczenia i materiały pomocnicze wybiera się z uwzględnieniem tych czynników. Ponadto charakter czyszczonej powierzchni określa zastosowaną metodę czyszczenia.

Systemy do czyszczenia

Ilustracja przedstawiająca „okrąg Sinnera”:

Czynnik chemiczny
Najpierw proces czyszczenia jest inicjowany za pomocą substancji czynnych w detergencie. Zapewniają one neutralizację sił wiążących cząstki zanieczyszczeń, aby zarówno luźne, jak i związane zanieczyszczenia, mogły zostać usunięte. W tym wypadku woda służy jako substancja nośna do przenoszenia zanieczyszczeń.

Czas
Czynnik ten stanowi okres między zastosowaniem detergentu lub kąpieli czyszczącej a wchłonięciem kąpieli zanieczyszczonej. W pomieszczeniach czystych czynnik czasu może zostać prawie pominięty, ponieważ z jednej strony można w nich oczekiwać znacznie mniejszego nagromadzenia zanieczyszczeń niż na powierzchniach podłóg przemysłowych: z drugiej strony, w odniesieniu do stanu powierzchni, często stosowaną metodą czyszczenia w pomieszczeniach czystych jest wycieranie na mokro.

Temperatura
Niektóre rodzaje zanieczyszczeń mogą być skuteczniej rozpuszczone w wodzie ciepłej niż w zimnej.

Czynnik mechaniczny
Dzięki zastosowaniu optymalnego działania mechanicznego, możliwe jest skrócenie czasu rozpoczęcia procesu czyszczenia, a zatem jego przyspieszenie. Czynnik ten może być pominięty w przypadku „niskiego” zanieczyszczenia. W procesie wycierania stosowane jest tylko działanie mechaniczne przy użyciu pracy ręcznej, aby jak najbardziej zmniejszyć wytwarzanie cząstek lub turbulencji.